原位合成铜纳米线阵列材料及其制备方法和应用
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摘要
本发明提供原位合成铜纳米线阵列材料及其制备方法和应用，将氧化铜纳米线阵列置于分离的两室反应电解池中，在空气氛围下，以氧化铜纳米线阵列为工作电极，汞/氧化汞为参比电极，铂片为对电极，电解溶液为0.5M K2CO3的乙腈和氘代水的混合溶液，其中，乙腈的体积占混合溶液总体积的30‑70％，氘代水的体积占混合溶液总体积的30‑70％，在扫描速度为8‑12mV/s，扫描电压为‑0.4～‑1.4V的范围内进行循环伏安测试，直至氧化铜的还原峰消失，即得到原位合成铜纳米线阵列材料。本发明通过原位转化的方法合成了铜纳米线阵列(Cu NWAs)材料，以铜纳米线阵列(Cu NWAs)材料为电化学反应的阴极，利用一种简便的电化学还原方法以氘代水为氘源实现了C‑X/C‑D的高效转化。
基本信息
专利标题 ：
原位合成铜纳米线阵列材料及其制备方法和应用
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN113322490A
申请号 ：
CN202010131052.8
公开（公告）日 ：
2021-08-31
申请日 ：
2020-02-28
授权号 ：
CN113322490B
授权日 ：
2022-05-24
发明人 ：
张兵韩舒艳刘翠波李孟阳
申请人 ：
天津大学
申请人地址 ：
天津市南开区卫津路92号
代理机构 ：
天津创智天诚知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
王秀奎
优先权 ：
CN202010131052.8
主分类号 ：
C25C1/12
IPC分类号 ：
C25C1/12 B22F1/00 C25B1/01 C25B3/25 C25B11/04 C25B3/09 C01G3/02 B82Y30/00 B82Y40/00
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IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C25
电解或电泳工艺；其所用设备
C25C
电解法生产、回收或精炼金属的工艺；其所用的设备
C25C1/00
由溶液电解法电解生产、回收或精炼金属
C25C1/12
铜的
法律状态
2022-05-24 ：
授权
2021-09-17 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C25C 1/12
申请日 : 20200228
申请日 : 20200228
2021-08-31 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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