碳化硅纳米线的合成方法
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摘要

碳化硅纳米线的合成方法,它涉及一种碳化硅纳米线的合成方法。本发明是为了解决现有制备碳化硅纳米线的方法原材料浪费严重、成本高、结构不均匀、长径比低的技术问题。本方法如下:将处理后的生长基底放于坩埚内硅树脂的上方,将坩埚放于真空高温炉中在升温,保温,降温,即得。该方法在生长SiC纳米线的同时,在模具内部生成SiC纳米颗粒,这样可以极大的提高原料利用率从而降低了成本,同时合成了链珠状的SiC纳米线,特殊的链珠状结构使其在复合材料、场致发射体、光催化剂、储氢及疏水表面具有更大的应用潜力。链珠状纳米线的生成同时伴有超长超直的SiC纳米线的生成。产品结构均匀。本发明属于纳米线的制备领域。

基本信息
专利标题 :
碳化硅纳米线的合成方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN110668447A
申请号 :
CN201911054722.4
公开(公告)日 :
2020-01-10
申请日 :
2019-10-31
授权号 :
CN110668447B
授权日 :
2022-04-19
发明人 :
李季刘杰张磊杨春晖
申请人 :
哈尔滨工业大学
申请人地址 :
黑龙江省哈尔滨市南岗区西大直街92号
代理机构 :
哈尔滨市文洋专利代理事务所(普通合伙)
代理人 :
王艳萍
优先权 :
CN201911054722.4
主分类号 :
C01B32/977
IPC分类号 :
C01B32/977  B82Y40/00  
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IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C01
无机化学
C01B
非金属元素;其化合物
C01B32/00
碳;其化合物
C01B32/90
碳化物
C01B32/914
单一元素碳化物
C01B32/956
碳化硅
C01B32/963
通过含硅化合物制备
C01B32/977
通过含硅有机化合物制备
法律状态
2022-04-19 :
授权
2020-02-11 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : C01B 32/977
申请日 : 20191031
2020-01-10 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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