一种高温高真空退火炉
授权
摘要
本发明涉及真空镀膜实验设备，具体地说是一种高温高真空退火炉，离子泵、退火室腔体、进样室腔体及分子泵依次连接，分子泵与机械泵通过管路相连，离子泵与退火室腔体之间、退火室腔体与进样室腔体之间以及进样室腔体与分子泵之间均设置有插板阀；退火室腔体内设有固定的上加热器及可上下升降的下加热器，进样室腔体内设有可上下升降的多层样品库，进样室腔体的一侧安装有手动传递杆机械手。本发明可在真空条件下快速和退火室完成样品交换，保证退火室一直处于高真空状态。本发明的高温高真空退火炉，退火室的冷态极限真空度可达到10‑8Pa超高真空，在加热1600℃时热态真空度可达到10‑6Pa，而且可实现样品不高于1600℃下的长时间保温退火。
基本信息
专利标题 ：
一种高温高真空退火炉
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN113493904A
申请号 ：
CN202010194318.3
公开（公告）日 ：
2021-10-12
申请日 ：
2020-03-19
授权号 ：
CN113493904B
授权日 ：
2022-06-07
发明人 ：
白印马锦李昌龙
申请人 ：
中国科学院沈阳科学仪器股份有限公司
申请人地址 ：
辽宁省沈阳市浑南新区新源街1号
代理机构 ：
沈阳科苑专利商标代理有限公司
代理人 ：
白振宇
优先权 ：
CN202010194318.3
主分类号 ：
C23C14/56
IPC分类号 ：
C23C14/56 C23C16/54 C23C14/58 C23C16/56 C21D9/00 C21D1/26 C21D1/773
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/56
连续镀覆的专用设备；维持真空的装置，例如真空锁定器
法律状态
2022-06-07 ：
授权
2021-10-29 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 14/56
申请日 : 20200319
申请日 : 20200319
2021-10-12 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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