电流镜电路
授权
摘要
本发明提供了一种电流镜电路,所述电流镜电路包括至少一个电流镜子模块,其中:所述电流镜子模块包括子模块本体及第一保护模块;至少一个所述电流镜子模块的所述第一保护模块包括一个使能晶体管及一个去耦电容,所述使能晶体管及所述去耦电容分别分布在所述子模块本体的两侧;在原有的虚拟晶体管所占据的区域替换为使能晶体管及去耦电容,使电流镜电路无需占用更多的版面资源来放置使能晶体管和去耦电容,且所述使能晶体管及去耦电容分布在所述子模块本体的两侧,避免了子模块本体的边缘刻蚀速率快,造成刻蚀过度并提升电流镜电路电流失配的风险,另外,使能晶体管及去耦电容不是镜像电流的匹配对象,其刻蚀后形成的尺寸不影响整体电流镜电路的电流匹配。
基本信息
专利标题 :
电流镜电路
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN111474980A
申请号 :
CN202010407181.5
公开(公告)日 :
2020-07-31
申请日 :
2020-05-14
授权号 :
CN111474980B
授权日 :
2022-04-15
发明人 :
张涛
申请人 :
华大半导体有限公司
申请人地址 :
上海市浦东新区中科路1867号A座8层
代理机构 :
上海智晟知识产权代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 :
张东梅
优先权 :
CN202010407181.5
主分类号 :
G05F3/26
IPC分类号 :
G05F3/26
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G05
控制;调节
G05F
调节电变量或磁变量的系统
G05F3/00
应用具有自调节性能的非控制元件或非控制元件的组合来调节电变量的非回授系统
G05F3/02
调节电压或电流的
G05F3/08
其中变量是直流的
G05F3/10
利用具有非线性特性的非控制器件
G05F3/16
非控制器件是半导体器件
G05F3/20
应用了二极管与三极管的组合
G05F3/26
电流反射镜
法律状态
2022-04-15 :
授权
2020-08-25 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G05F 3/26
申请日 : 20200514
申请日 : 20200514
2020-07-31 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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