水平度测量方法和直接式成像设备
授权
摘要
本发明提出了一种水平度测量方法和直接式成像设备，该方法包括：控制直接式成像设备的移动平台沿竖直方向移动，并在移动平台的原点位置处聚焦成清晰图像，获取移动平台对应所述原点位置的第一焦面高度值；控制移动平台在与竖直方向垂直的水平面移动至少一个测量位置，并在移动平台的至少一个测量位置处聚焦成清晰图像时，获取移动平台对应每个测量位置的第二焦面高度值；根据第二焦面高度值与第一焦面高度值确定所述移动平台的水平度。本发明的水平度测量方法通过控制移动平台运动，获取移动平台竖直方向移动距离，确定第一焦面高度和第二焦面高度，来实现移动平台水平度的测量。
基本信息
专利标题 ：
水平度测量方法和直接式成像设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN111694226A
申请号 ：
CN202010449731.X
公开（公告）日 ：
2020-09-22
申请日 ：
2020-05-25
授权号 ：
CN111694226B
授权日 ：
2022-05-17
发明人 ：
徐晚晴李智
申请人 ：
合肥芯碁微电子装备股份有限公司
申请人地址 ：
安徽省合肥市高新区创新大道2800号创新产业园二期F3楼11层
代理机构 ：
北京景闻知识产权代理有限公司
代理人 ：
贾玉姣
优先权 ：
CN202010449731.X
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-05-17 ：
授权
2020-10-20 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 7/20
申请日 : 20200525
申请日 : 20200525
2020-09-22 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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