一种高密度低游离硅含量反应烧结碳化硅陶瓷材料的制备方法
授权
摘要

本发明提供一种高密度低游离硅含量反应烧结碳化硅陶瓷材料的制备方法,该制备方法包括混料、真空除气、注浆成型、脱模干燥和烧结处理步骤,其中选取合理的原料粒度级配,并采用压力注浆成型,增强了产品素坯的密度;在烧结过程中采用优化的烧结曲线,有机物排除同预烧合二为一,在不影响产品质量的情况下降低烧结成本,减少碳化硅陶瓷素坯在高温排除有机物过程中发生的坯体的变形或开裂问题;使高密度坯体能够在较低温度下充分反应烧结,生成高密度、低游离硅陶瓷制品,保证了碳化硅陶瓷素坯显微结构均匀,大大提高了陶瓷材料的强度及结构稳定性。

基本信息
专利标题 :
一种高密度低游离硅含量反应烧结碳化硅陶瓷材料的制备方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN111574226A
申请号 :
CN202010454596.8
公开(公告)日 :
2020-08-25
申请日 :
2020-05-26
授权号 :
CN111574226B
授权日 :
2022-06-07
发明人 :
齐小君
申请人 :
潍坊盛润特种陶瓷有限公司
申请人地址 :
山东省潍坊市坊子区坊城街办潍徐路十五公里处
代理机构 :
山东华君知识产权代理有限公司
代理人 :
吕翠莲
优先权 :
CN202010454596.8
主分类号 :
C04B35/573
IPC分类号 :
C04B35/573  C04B35/622  C04B35/638  C04B35/65  B28B13/02  B28B11/24  
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C04
水泥;混凝土;人造石;陶瓷;耐火材料
C04B
石灰;氧化镁;矿渣;水泥;其组合物,例如:砂浆、混凝土或类似的建筑材料;人造石;陶瓷;耐火材料;天然石的处理
C04B35/00
以成分为特征的陶瓷成型制品;陶瓷组合物;准备制造陶瓷制品的无机化合物的加工粉末
C04B35/515
以非氧化物为基料的
C04B35/56
以碳化物为基料的
C04B35/565
以碳化硅为基料的
C04B35/569
精细陶瓷
C04B35/573
用反应烧结获得的
法律状态
2022-06-07 :
授权
2020-09-18 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : C04B 35/573
申请日 : 20200526
2020-08-25 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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