入库方法、多进深立体库、存储介质及电子设备

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摘要

本公开涉及立体库技术领域，提出了一种入库方法、多进深立体库、存储介质及电子设备。入库方法，用于管理多进深立体库，多进深立体库包括多个存储单元，存储单元包括前进深储位和后进深储位，入库方法包括：将第一托盘存入第一个存储单元的后进深储位；将第二托盘存入第一个存储单元的前进深储位；将第二托盘移至第二个存储单元上，其中，第一托盘与第二托盘分别用于存储不同品类的商品。本公开的入库方法实现了第一个存储单元的前进深储位和后进深储位暂时存储用于存储不同品类商品的第一托盘和第二托盘，从而提高了多进深自动化立体库的存储率。

基本信息

专利标题：

入库方法、多进深立体库、存储介质及电子设备

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN111746993A

申请号：

CN202010460091.2

公开（公告）日：

2020-10-09

申请日：

2020-05-27

授权号：

CN111746993B

授权日：

2022-06-07

发明人：

高子鑫陈新

申请人：

北京京东乾石科技有限公司

申请人地址：

北京市大兴区北京经济技术开发区科创十一街18号院2号楼19层A1905室

代理机构：

北京律智知识产权代理有限公司

代理人：

孙宝海

优先权：

CN202010460091.2

主分类号：

B65G1/04

IPC分类号：

B65G1/04 B65G1/137 G06Q10/08