石英晶片研磨的高精度频率统计校准的方法

授权

摘要

本发明公开了石英晶片研磨的高精度频率统计校准的方法，包括研磨过程频率统计和机器校准；所述机器校准包括仪器校准、机台校准和用户校准；首先进行仪器校准，在F_仪器校准的基础上，进行F_机台校准；研磨过程频率统计用以保证频率统计的精确性，从而保证同一批料散差小，一致性高，所述机器校准用以保证仪器频率的准确性，从而使频率统计数据能真实反应研磨机的研磨能力；本发明提供了一种通过增加仪器校准来保障机器本身的无误，并通过机台校准和用户校准用于保证测频精度；实现了同一批料盘间散差小，且当达到目标频率时精准停机，保证了仪器间的一致性。

基本信息

专利标题：

石英晶片研磨的高精度频率统计校准的方法

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN111665392A

申请号：

CN202010489456.4

公开（公告）日：

2020-09-15

申请日：

2018-05-16

授权号：

CN111665392B

授权日：

2022-06-10

发明人：

郭彬潘凌锋陈一信陈浙泊

申请人：

浙江大学台州研究院

申请人地址：

浙江省台州市市府大道西段618号

代理机构：

杭州天昊专利代理事务所(特殊普通合伙)

代理人：

董世博

优先权：

CN202010489456.4

主分类号：

G01R23/02

IPC分类号：

G01R23/02