L-门冬氨酸氨氯地平晶型及其制备方法和用途

授权

摘要

L‑门冬氨酸氨氯地平晶型及其制备方法和用途。本发明公开了一种L‑门冬氨酸氨氯地平晶型，其特征在于，所述晶型X‑射线衍射使用Cu‑Kα辐射，以2θ角度（°）表示的X‑射线衍射在以下位置有峰：9.3±0.2°、9.9±0.2°、12.2±0.2°、12.9±0.2°、19.2±0.2°、19.8±0.2°、22.2±0.2°、24.2±0.2°、26.6±0.2°，本发明制备的L‑门冬氨酸氨氯地平晶型的质量及稳定性更好，利于长期保存。

基本信息

专利标题：

L-门冬氨酸氨氯地平晶型及其制备方法和用途

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN111574433A

申请号：

CN202010535499.1

公开（公告）日：

2020-08-25

申请日：

2020-06-12

授权号：

CN111574433B

授权日：

2022-04-19

发明人：

蒋玉伟

申请人：

南京佰麦生物技术有限公司

申请人地址：

江苏省南京市栖霞区纬地路9号E1栋5楼

代理机构：

代理人：

优先权：

CN202010535499.1

主分类号：

C07D211/90

IPC分类号：

C07D211/90 A61K31/4422 A61P9/12 A61P7/06