一种采用热退火后合成技术制备MOF纳滤膜的方法
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摘要
一种采用热退火后合成技术制备MOF纳滤膜的方法，属于膜分离领域，包括以下步骤：将多孔陶瓷基底进行超声预处理，活化及清理陶瓷基底表面。首先，在陶瓷基底表面涂覆金属凝胶，之后将陶瓷基底置于含有有机配体的溶液中，使MOF纳米颗粒在陶瓷基底上原位生长从而形成连续无缺陷的MOF分离层。将合成的MOF复合膜进行高温后合成改性，通过调控退火温度，退火时间，升温速率，降温速率等，活化MOF颗粒内部微观结构及调控MOF分离层的厚度和形貌。本发明方法制备的MOF分离膜与基底结合力良好，可以有效提高分离过程中的传质速率，从而在不牺牲截留率的情况下，提高分离膜的通量。
基本信息
专利标题 ：
一种采用热退火后合成技术制备MOF纳滤膜的方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN111672330A
申请号 ：
CN202010551037.9
公开（公告）日 ：
2020-09-18
申请日 ：
2020-06-16
授权号 ：
CN111672330B
授权日 ：
2022-04-08
发明人 ：
王乃鑫李晓婷孙皓王湘琼李杰安全福
申请人 ：
北京工业大学
申请人地址 ：
北京市朝阳区平乐园100号
代理机构 ：
北京思海天达知识产权代理有限公司
代理人 ：
张立改
优先权 ：
CN202010551037.9
主分类号 ：
B01D67/00
IPC分类号 ：
B01D67/00 B01D69/12 B01D69/02 B01D61/00
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B01
一般的物理或化学的方法或装置
B01D67/00
专门适用于分离工艺或设备的半透膜的制备方法
法律状态
2022-04-08 ：
授权
2020-10-20 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : B01D 67/00
申请日 : 20200616
申请日 : 20200616
2020-09-18 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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