一种阵列基板、阵列基板制程方法及显示面板
授权
摘要
本申请实施例提供一种阵列基板、阵列基板制程方法及显示面板，该阵列基板包括：像素定义层、发光层以及透明导光层。像素定义层具有相对设置的第一面和第二面，且在第一面设置有若干凹槽，凹槽的侧面与底面延长线所成的角度为0°至50°。发光层设置在凹槽底面。透明导光层填充在凹槽内，并位于发光层远离凹槽底面的一侧。通过在凹槽内填充透明导光层，发光层的光线经过透明导光层折射后，其出射角会增加。另外，透明导光层填满凹槽后能够解决凹槽底部存在角度难以封装的问题。填充透明导光层后，还能够改善喷墨打印时材料的流平性能，给喷墨打印带来减薄效果。
基本信息
专利标题 ：
一种阵列基板、阵列基板制程方法及显示面板
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN111864112A
申请号 ：
CN202010708841.3
公开（公告）日 ：
2020-10-30
申请日 ：
2020-07-22
授权号 ：
CN111864112B
授权日 ：
2022-06-10
发明人 ：
齐晓青
申请人 ：
武汉华星光电半导体显示技术有限公司
申请人地址 ：
湖北省武汉市东湖新技术开发区高新大道666号光谷生物创新园C5栋305室
代理机构 ：
深圳紫藤知识产权代理有限公司
代理人 ：
李新干
优先权 ：
CN202010708841.3
主分类号 ：
H01L51/52
IPC分类号 ：
H01L51/52 H01L51/56 H01L27/32
法律状态
2022-06-10 ：
授权
2020-11-17 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01L 51/52
申请日 : 20200722
申请日 : 20200722
2020-10-30 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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