一种基于B样条密度法的自支撑结构拓扑优化设计方法
授权
摘要
本发明提供了一种基于B样条密度法的自支撑结构拓扑优化设计方法。首先采用B样条函数表示结构的密度场，通过求导得到密度场的梯度，并根据梯度模以及曲率半径的大小确定结构的边界区域。在边界区域内通过梯度方向计算出边界的倾斜角，并且构造倾角约束，从而控制边界处倾斜角大于设备规定的临界角度。此外，根据不同的成型方向，构造包含结构域的矩形区域，在区域内布置若干均匀分布的检测点，并通过控制这些检测点处密度值之间的关系实现结构内V型区的消除。通过以上两个约束实现结构的自支撑设计。
基本信息
专利标题 ：
一种基于B样条密度法的自支撑结构拓扑优化设计方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN111814383A
申请号 ：
CN202010726695.7
公开（公告）日 ：
2020-10-23
申请日 ：
2020-07-25
授权号 ：
CN111814383B
授权日 ：
2022-05-31
发明人 ：
王彻张卫红周璐高彤
申请人 ：
西北工业大学
申请人地址 ：
陕西省西安市友谊西路127号
代理机构 ：
西北工业大学专利中心
代理人 ：
陈星
优先权 ：
CN202010726695.7
主分类号 ：
G06F30/23
IPC分类号 ：
G06F30/23 G06F30/17 G06F111/04 G06F119/18
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G06
计算；推算或计数
G06F
电数字数据处理
G06F30/23
使用有限元方法或有限差方法
法律状态
2022-05-31 ：
授权
2020-11-10 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G06F 30/23
申请日 : 20200725
申请日 : 20200725
2020-10-23 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
1、
CN111814383A.PDF
PDF下载
