一种石英摆片的制备方法
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摘要
本发明公开了一种石英摆片的制备方法，包括：S1、晶圆基材清洗，S2、晶圆正面金属层沉积，S3、晶圆背面金属层沉积，S4、匀胶、曝光，S5、显影，S6、金属层腐蚀，S7、基材腐蚀，S8、取片、存储。晶圆上均匀的设置有若干个摆片，同时可以对多个摆片进行加工，不仅提高了摆片的加工效率，而且提高了摆片质量的一致性。使用光刻工艺对晶圆上沉积金属层进行加工，使得金属层具有掩膜的作用，能够提高产品的加工精度。本发明采用上述石英摆片的制备方法，能够解决现有的摆片生产效率低、精度低和质量稳定性差的问题。
基本信息
专利标题 ：
一种石英摆片的制备方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN111847847A
申请号 ：
CN202010751436.X
公开（公告）日 ：
2020-10-30
申请日 ：
2020-07-30
授权号 ：
CN111847847B
授权日 ：
2022-05-06
发明人 ：
王立会陈天平李克光韩红宾郭星
申请人 ：
保定开拓精密仪器制造有限责任公司
申请人地址 ：
河北省保定市白沟新城友谊东路CT机工业园
代理机构 ：
北京圣州专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
王振佳
优先权 ：
CN202010751436.X
主分类号 ：
C03B20/00
IPC分类号 ：
C03B20/00 C03C23/00 C03C15/00 C03C17/38 C03C17/40 G01P15/02
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C03
玻璃；矿棉或渣棉
C03B
玻璃、矿物或渣棉的制造、成型；玻璃、矿物或渣棉的制造或成型的辅助工艺
C03B20/00
生产石英或熔凝硅石制品的专用方法
法律状态
2022-05-06 ：
授权
2020-11-17 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C03B 20/00
申请日 : 20200730
申请日 : 20200730
2020-10-30 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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