一种光稳定剂及合成工艺
授权
摘要
本发明提供一种光稳定剂及合成工艺，具体涉及光稳定剂领域，分子结构如下，其中n为1‑10；R为氢、C1‑C20烷基、C4‑C10环烷基、C1‑C10的链状烯氧基或环状烯氧基的一种。本发明可制备一种聚合型烷氧基化的受阻胺光稳定剂，具备更好的光稳定性。
基本信息
专利标题 ：
一种光稳定剂及合成工艺
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN111892745A
申请号 ：
CN202010790335.3
公开（公告）日 ：
2020-11-06
申请日 ：
2020-08-07
授权号 ：
CN111892745B
授权日 ：
2022-05-20
发明人 ：
柯友斌潘行平张晓静李军刘石葛一刘周衡
申请人 ：
宿迁市振兴化工有限公司
申请人地址 ：
江苏省宿迁市生态化工科技产业园北区经六路2号
代理机构 ：
南京常青藤知识产权代理有限公司
代理人 ：
王子瑜
优先权 ：
CN202010790335.3
主分类号 ：
C08K5/3492
IPC分类号 ：
C08K5/3492 C07D401/12 C07D401/14
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C08
有机高分子化合物；其制备或化学加工；以其为基料的组合物
C08K
使用无机物或非高分子有机物作为配料
C08K5/00
使用有机配料
C08K5/16
含氮化合物
C08K5/34
在环中有氮的杂环化合物
C08K5/3467
环中有两个以上氮原子
C08K5/3477
六元环
C08K5/3492
三嗪类
法律状态
2022-05-20 ：
授权
2020-11-24 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C08K 5/3492
申请日 : 20200807
申请日 : 20200807
2020-11-06 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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