一种抗菌微弧氧化膜层的制备方法
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摘要

本发明公开了一种抗菌微弧氧化膜层的制备方法,包括以下步骤:先熔炼制备含银的镁合金,再进行微弧氧化,在含银的镁合金表面形成抗菌微弧氧化膜层。本发明的方法可以赋予微弧氧化膜层优异的抗菌性能,且操作简单、安全可靠,在骨科植入物领域具有广阔的应用前景。

基本信息
专利标题 :
一种抗菌微弧氧化膜层的制备方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN112111774A
申请号 :
CN202010849370.8
公开(公告)日 :
2020-12-22
申请日 :
2020-08-21
授权号 :
CN112111774B
授权日 :
2022-04-08
发明人 :
刘志聃黎花单志胡晓岳戴护民
申请人 :
广东机电职业技术学院
申请人地址 :
广东省广州市白云区同和蟾蜍石东路2号
代理机构 :
广州嘉权专利商标事务所有限公司
代理人 :
齐键
优先权 :
CN202010849370.8
主分类号 :
C25D11/30
IPC分类号 :
C25D11/30  C22C1/03  C22C23/00  C22F1/06  A61L27/04  A61L27/30  A61L27/54  
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C25
电解或电泳工艺;其所用设备
C25D
覆层的电解或电泳生产工艺方法;电铸;工件的电解法接合;所用的装置
C25D11/00
表面反应,即形成转化层的电解覆层
C25D11/02
阳极氧化
C25D11/30
镁或以其为基之合金的
法律状态
2022-04-08 :
授权
2021-01-08 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : C25D 11/30
申请日 : 20200821
2020-12-22 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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