一种双裂环结构石墨烯的吸收器
授权
摘要
本发明公开了一种双裂环结构石墨烯的吸收器，包括由下向上依次层叠的截面为正方形的硅层、金层和二氧化硅层；所述二氧化硅层的表面设有材质为石墨烯的方形裂环，方形裂环的中部设有两个对称的第一裂口；所述二氧化硅层的表面中部设有材质为石墨烯的圆形裂环，圆形裂环上设有两个对称的第二裂口；所述第一裂口与第二裂口相互垂直。本发明对太赫兹波具有非常优越的吸收性能，具有吸收频带宽的特点。
基本信息
专利标题 ：
一种双裂环结构石墨烯的吸收器
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN111864405A
申请号 ：
CN202010914099.1
公开（公告）日 ：
2020-10-30
申请日 ：
2020-09-03
授权号 ：
CN111864405B
授权日 ：
2022-04-19
发明人 ：
徐弼军吴震东
申请人 ：
浙江科技学院
申请人地址 ：
浙江省杭州市西湖区留和路318号
代理机构 ：
杭州万合知识产权代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 ：
丁海华
优先权 ：
CN202010914099.1
主分类号 ：
H01Q17/00
IPC分类号 ：
H01Q17/00 G02B5/00
法律状态
2022-04-19 ：
授权
2020-11-17 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01Q 17/00
申请日 : 20200903
申请日 : 20200903
2020-10-30 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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