高斯束深度偏移成像方法、装置、设备和存储介质
实质审查的生效
摘要

本发明公开了一种高斯束深度偏移成像方法、装置、设备和存储介质,方法包括:针对单一出射点的地震数据,利用波前构建进行运动学与动力学追踪,得到相邻两个时刻的两层波前;基于所述相邻两个时刻的两层波前,构建成像孔径;确定所述成像孔径内的成像点,并计算所述成像点的上行波场和下行波场;将成像点的上行波场和下行波场进行互相关成像,得到所述地震数据的成像结果,实现了在只保留两层波前的前提下,进行高斯束深度偏移,有效减少中间数据的存储空间,防止内存崩溃,增强了偏移程序的稳定性,进而提高了成像的稳定性。

基本信息
专利标题 :
高斯束深度偏移成像方法、装置、设备和存储介质
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114428327A
申请号 :
CN202010995631.7
公开(公告)日 :
2022-05-03
申请日 :
2020-09-21
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
石秀林
申请人 :
中国石油化工股份有限公司;中国石油化工股份有限公司石油物探技术研究院
申请人地址 :
北京市朝阳区朝阳门北大街22号
代理机构 :
北京聿宏知识产权代理有限公司
代理人 :
吴大建
优先权 :
CN202010995631.7
主分类号 :
G01V1/36
IPC分类号 :
G01V1/36  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01V
地球物理;重力测量;物质或物体的探测;示踪物
G01V1/00
地震学;地震或声学的勘探或探测
G01V1/28
地震数据的处理,例如,分析、用于解释、用于校正
G01V1/36
完成记录的静态或动态校正,例如,传播范围的校正;地震信号的相关处理;消除干扰能量的影响
法律状态
2022-05-20 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G01V 1/36
申请日 : 20200921
2022-05-03 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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