深度成像装置
授权
摘要
本实用新型提供了一种深度成像装置，包括光投射器和成像模块；所述光投射器包括离散光束投射器和面光源投射器；所述离散光束投射器，用于向所述目标物体投射多束离散准直光束；所述面光源投射器，用于向所述目标物体投射泛光；所述成像模块包括第一成像模块和第二成像模块；所述第一成像模块，用于接收所述目标物体反射的所述散准直光束，并根据多束所述散准直光束形成的光斑图案获得所述目标物体表面的第一深度图像；所述第二成像模块，用于接收所述目标物体反射后的泛光，并根据所述泛光的传播时间获得所述目标物体表面的第二深度图像。本实用新型综合利用了结构光和tof成像的特点，实现对目标物体深度图像的准确采集。
基本信息
专利标题 ：
深度成像装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201920874583.9
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-06-11
授权号 ：
CN210128694U
授权日 ：
2020-03-06
发明人 ：
朱力吕方璐汪博
申请人 ：
深圳市光鉴科技有限公司
申请人地址 ：
广东省深圳市南山区粤海街道高新区社区白石路3609号
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN201920874583.9
主分类号 ：
G01B11/22
IPC分类号 ：
G01B11/22 G01B11/30 G02B27/42
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01B
长度、厚度或类似线性尺寸的计量；角度的计量；面积的计量；不规则的表面或轮廓的计量
G01B11/00
以采用光学方法为特征的计量设备
G01B11/22
用于计量深度
法律状态
2020-03-06 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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