提高双色双光子荧光成像层析深度的装置

专利权的终止

摘要

一种提高双色双光子荧光成像层析深度的装置，采用外光束包含内光束且同轴的双色光通过同一个聚焦物镜(3)聚焦到样品(4)中激发样品荧光的方法，利用两种不同频率的飞秒脉冲激光作为激发光源，一束横截面为环形，一束横截面为圆形，两者同轴互补，这样两束光只在焦点区域重合，通过延时线调整两束光在焦点处等光程激发双光子荧光信号，从而有效消除焦点之外的背景信号，本实用新型装置可有效地提高三维成像的层析深度，消除背景荧光，提高信噪比，而且操作方便。

基本信息

专利标题：

提高双色双光子荧光成像层析深度的装置

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN200820057181.1

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2008-04-11

授权号：

CN201167945Y

授权日：

2008-12-24

发明人：

乔玲玲王琛毛峥乐程亚徐至展

申请人：

中国科学院上海光学精密机械研究所

申请人地址：

201800上海市800－211邮政信箱

代理机构：

上海新天专利代理有限公司

代理人：

张泽纯

优先权：

CN200820057181.1

主分类号：

A61B5/00

IPC分类号：

A61B5/00