双光子显微成像系统
授权
摘要
本发明提供了一种双光子显微成像系统，所述双光子显微成像系统包括激光器、二次谐波产生装置及双光子显微成像装置，所述二次谐波产生装置位于所述激光器与所述双光子显微成像装置之间；所述二次谐波产生装置用于对所述激光器发出的激光的频率进行倍增，所述二次谐波产生装置包括依次设置于所述激光器的出射光路上的相位延迟片、非线性介质。本发明通过非线性介质对所述激光器发出的激光的频率进行倍增，大大简化了整个系统的结构、降低了整个系统的成本，且非线性介质受环境干扰较小，从而提升了整个系统的稳定性。此外，本发明不需要采用结构复杂且价格昂贵的锁模钛蓝宝石激光器作为泵浦光源，进一步降低了成本。
基本信息
专利标题 ：
双光子显微成像系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN110567927A
申请号 ：
CN201910920998.X
公开（公告）日 ：
2019-12-13
申请日 ：
2019-09-27
授权号 ：
CN110567927B
授权日 ：
2022-05-10
发明人 ：
吴婷廖九零李慧余佳高玉峰郑炜
申请人 ：
中国科学院深圳先进技术研究院
申请人地址 ：
广东省深圳市南山区深圳大学城学苑大道1068号
代理机构 ：
深圳市铭粤知识产权代理有限公司
代理人 ：
孙伟峰
优先权 ：
CN201910920998.X
主分类号 ：
G01N21/64
IPC分类号 ：
G01N21/64 G01N21/01 G02B21/00
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N21/00
利用光学手段，即利用亚毫米波、红外光、可见光或紫外光来测试或分析材料
G01N21/62
所测试的材料在其中被激发，因之引起材料发光或入射光的波长发生变化的系统
G01N21/63
光学激发的
G01N21/64
荧光；磷光
法律状态
2022-05-10 ：
授权
2020-01-07 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G01N 21/64
申请日 : 20190927
申请日 : 20190927
2019-12-13 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
