四维高光谱深度成像系统
授权
摘要
本实用新型公开了一种四维高光谱深度成像系统，包括校准相机、高光谱图谱仪模块、三维形貌扫描模块；校准相机采集物体的表面信息，高光谱图谱仪模块获取表面的高光谱信息，三维形貌扫描模块获取三维形貌信息以及距离信息；将三维形貌扫描模块和校准相机进行标定，将高光谱图谱仪模块和校准相机进行标定，使得校准相机的每一个像素都对应一个三维形貌信息和一个高光谱信息。本实用新型可以同时根据单个像素点，获取物体的光谱和3D形貌的四维信息,结构紧凑，集成化程度高，操作简便。
基本信息
专利标题 ：
四维高光谱深度成像系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201922286118.6
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-12-18
授权号 ：
CN211205210U
授权日 ：
2020-08-07
发明人 ：
何赛灵李常青
申请人 ：
浙江大学
申请人地址 ：
浙江省杭州市西湖区余杭塘路866号
代理机构 ：
杭州求是专利事务所有限公司
代理人 ：
林松海
优先权 ：
CN201922286118.6
主分类号 ：
G01B11/25
IPC分类号 ：
G01B11/25 G01N21/64
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01B
长度、厚度或类似线性尺寸的计量；角度的计量；面积的计量；不规则的表面或轮廓的计量
G01B11/00
以采用光学方法为特征的计量设备
G01B11/24
用于计量轮廓或曲率
G01B11/25
通过在物体上投影一个图形，例如莫尔条纹
法律状态
2020-08-07 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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