一种高光谱成像系统及重构光谱成像方法
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摘要

一种高光谱成像系统及重构光谱成像方法属于光电成像技术领域,不仅可以保持成像系统高灵敏度和高空间分辨率,而且谱段在轨可重构可以解决光谱分辨率与体积重量和有限星上资源的矛盾。本发明提出的高光谱成像系统,不仅在小体积尺寸下可保持成像系统高灵敏度和高空间分辨率,而且谱段可重构方法可以解决光谱分辨率与体积重量以及有限的压缩存储数传等硬件资源的矛盾。

基本信息
专利标题 :
一种高光谱成像系统及重构光谱成像方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN113418873A
申请号 :
CN202110698475.2
公开(公告)日 :
2021-09-21
申请日 :
2021-06-23
授权号 :
CN113418873B
授权日 :
2022-05-17
发明人 :
陶淑苹曲宏松郑亮亮张贵祥
申请人 :
中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
申请人地址 :
吉林省长春市东南湖大路3888号
代理机构 :
长春众邦菁华知识产权代理有限公司
代理人 :
李青
优先权 :
CN202110698475.2
主分类号 :
G01N21/25
IPC分类号 :
G01N21/25  G01N21/01  
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N21/00
利用光学手段,即利用亚毫米波、红外光、可见光或紫外光来测试或分析材料
G01N21/17
入射光根据所测试的材料性质而改变的系统
G01N21/25
颜色;光谱性质,即比较材料对两个或多个不同波长或波段的光的影响
法律状态
2022-05-17 :
授权
2021-10-12 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G01N 21/25
申请日 : 20210623
2021-09-21 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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