单芯片集成型光谱成像微系统光谱数据校正方法
授权
摘要

本发明属于光谱成像技术领域,具体涉及一种单芯片集成型光谱成像微系统光谱数据校正方法。所述校正方法包括:步骤1:完成底层校正算法的设计;步骤2:根据底层校正算法计算校正矩阵;步骤3:将校正矩阵作用于光谱成像微系统输出光谱数据,得到校正后结果。本发明相对于现有迭代校正的技术方法,从硬件结构特性出发,提高了光谱成像微系统的光谱数据准确度。同时,减小校正矩阵对参考目标光谱数据的依赖性,对于不同的实际场景下应用均适用。底层校正算法的引入,初步解决了光谱成像微系统硬件结构及固有特性带来的影响光谱准确因素对光谱数据的影响问题,提高了光谱成像微系统光谱数据准确度。

基本信息
专利标题 :
单芯片集成型光谱成像微系统光谱数据校正方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN111024229A
申请号 :
CN201911190015.8
公开(公告)日 :
2020-04-17
申请日 :
2019-11-28
授权号 :
CN111024229B
授权日 :
2022-04-01
发明人 :
刘舒扬赵安娜吕津玮张晨周涛贾晓东
申请人 :
天津津航技术物理研究所
申请人地址 :
天津市东丽区空港经济区中环西路58号
代理机构 :
中国兵器工业集团公司专利中心
代理人 :
周恒
优先权 :
CN201911190015.8
主分类号 :
G01J3/12
IPC分类号 :
G01J3/12  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01J
红外光、可见光、紫外光的强度、速度、光谱成分,偏振、相位或脉冲特性的测量;比色法;辐射高温测定法
G01J3/00
光谱测定法;分光光度测定法;单色器;测定颜色
G01J3/12
光谱的产生;单色器
法律状态
2022-04-01 :
授权
2020-05-12 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G01J 3/12
申请日 : 20191128
2020-04-17 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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