一种激光投射模组及深度成像装置
授权
摘要
本申请提供一种激光投射模组及深度成像装置，激光投射模组包括：VCSEL光源，用于发射光束；准直镜，用于对VCSEL光源发射的光束进行准直；投射屏，位于准直镜对光束准直后出射的光路上，用于根据光束成像，且准直镜与投射屏之间的距离可调节；转换镜头，设置在准直镜与投射屏之间，用于改变经准直镜准直后的光束在准直镜与投射屏之间的传播路径，以减小投射屏与准直镜之间的实际物距，其中，实际物距表示VCSEL光源发射的光束在投射屏上清晰成像时要求投射屏与准直镜之间间隔的距离；图像接收部，用于采集投射屏上的图像，并确定图像是否清晰。这样可以使得激光投射模组的准直镜与投射屏之间以较小的距离实现远距离应用场景的清晰成像。
基本信息
专利标题 ：
一种激光投射模组及深度成像装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020794145.4
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-05-13
授权号 ：
CN212341618U
授权日 ：
2021-01-12
发明人 ：
陈展耀戴书麟刘风雷
申请人 ：
东莞埃科思科技有限公司
申请人地址 ：
广东省东莞市松山湖园区兴业路4号8栋
代理机构 ：
北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 ：
唐正瑜
优先权 ：
CN202020794145.4
主分类号 ：
G02B27/48
IPC分类号 ：
G02B27/48 G02B27/30
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B27/00
不能分入G02B 1/00-G02B 26/00,G02B 30/00的其它光学系统或其它光学仪器
G02B27/48
激光斑纹光学
法律状态
2021-01-12 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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