一种投射模组、成像装置以及光学设备
授权
摘要
本申请提供了一种投射模组、成像装置以及光学设备，其中，上述投射模组包括光源和光学组件，其中，所述光源的光轴与所述投射模组的光场中轴不重合；所述光源用于发射激光；所述光学组件用于准直所述光源发射的激光以形成散斑图案，所述散斑图案沿所述投射模组的光场中轴呈非对称分布。本申请提供的投射模组能够使散斑图案沿所述投射模组的光场中轴呈非对称分布，进而在减少成像装置的无效光场的同时，减少成像装置的组装难度和控制难度。
基本信息
专利标题 ：
一种投射模组、成像装置以及光学设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202122959732.1
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-11-29
授权号 ：
CN216646799U
授权日 ：
2022-05-31
发明人 ：
郑德金戴刚段彦旭武万多
申请人 ：
奥比中光科技集团股份有限公司
申请人地址 ：
广东省深圳市南山区粤海街道学府路63号高新区联合总部大厦11-13楼
代理机构 ：
深圳中一联合知识产权代理有限公司
代理人 ：
李木燕
优先权 ：
CN202122959732.1
主分类号 ：
G01S7/481
IPC分类号 ：
G01S7/481 G02B27/42
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01S
无线电定向；无线电导航；采用无线电波测距或测速；采用无线电波的反射或再辐射的定位或存在检测；采用其他波的类似装置
G01S7/00
与G01S13/00，G01S15/00，G01S17/00各组相关的系统的零部件
G01S7/48
与G01S17/00组相应的系统的
G01S7/481
结构特征，例如光学元件的布置
法律状态
2022-05-31 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
