一种具有界面纳米片保护层的锂负极及其制备方法
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摘要
本发明公开了一种具有界面纳米片保护层的锂负极，包括锂负极基体，锂负极基体表面上覆有一层石墨相氮化碳纳米片界面层。其制备方法为：将石墨相氮化碳纳米片粉末加入有机溶剂中进行分散，制备成石墨相氮化碳纳米片分散液；将石墨相氮化碳纳米片分散液滴涂在锂负极基体表面，待溶剂挥发后在锂负极表面形成石墨相氮化碳纳米片界面层，得到具有界面纳米片保护层的锂负极。本发明在锂负极基体表面上覆有一层石墨相氮化碳纳米片界面层，石墨相氮化碳纳米片中丰富且均匀分布的氮原子可以与锂离子发生相互作用形成瞬态Li‑N键，从而调节锂离子通量并实现稳定的沉积过程，有助于减少锂枝晶和死锂的生成，减少极化。
基本信息
专利标题 ：
一种具有界面纳米片保护层的锂负极及其制备方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN112186153A
申请号 ：
CN202011006932.9
公开（公告）日 ：
2021-01-05
申请日 ：
2020-09-23
授权号 ：
CN112186153B
授权日 ：
2022-05-20
发明人 ：
庄子龙黄鹏程涂飞跃鞠博伟匡鲤萍龚毅马鹏程曹景超覃事彪
申请人 ：
长沙矿冶研究院有限责任公司
申请人地址 ：
湖南省长沙市岳麓区麓山南路966号
代理机构 ：
长沙朕扬知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
魏龙霞
优先权 ：
CN202011006932.9
主分类号 ：
H01M4/36
IPC分类号 ：
H01M4/36 H01M4/38 H01M4/583 H01M4/62 H01M10/0525 B82Y30/00 B82Y40/00
法律状态
2022-05-20 ：
授权
2021-01-22 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01M 4/36
申请日 : 20200923
申请日 : 20200923
2021-01-05 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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