组合微透镜阵列结构及其加工方法
授权
摘要
本发明公开一种组合微透镜阵列结构及其加工方法，加工方法包括：在透镜基材的表面覆盖第一光刻胶层；对第一光刻胶层进行曝光和显影，形成图形化的第一掩膜层；刻蚀透镜基材和第一掩膜层，形成第一中间件；去除残余的第一掩膜层；在第一中间件具有第一微透镜的表面覆盖第二光刻胶层；对第二光刻胶层进行曝光和显影，形成图形化的第二掩膜层；刻蚀第一中间件和第二光刻胶层，形成组合微透镜阵列结构；去除残余的第二掩膜层；其中，第一微透镜和第二微透镜的类型不同。采用上述技术方案形成的组合微透镜阵列结构可以解决目前单独使用凸透镜或凹透镜对图像进行处理时，因存在球面像差，容易造成图像失真的问题。
基本信息
专利标题 ：
组合微透镜阵列结构及其加工方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN112130235A
申请号 ：
CN202011016554.2
公开（公告）日 ：
2020-12-25
申请日 ：
2020-09-24
授权号 ：
CN112130235B
授权日 ：
2022-05-27
发明人 ：
林源为袁仁志
申请人 ：
北京北方华创微电子装备有限公司
申请人地址 ：
北京市大兴区经济技术开发区文昌大道8号
代理机构 ：
北京国昊天诚知识产权代理有限公司
代理人 ：
施敬勃
优先权 ：
CN202011016554.2
主分类号 ：
G02B3/00
IPC分类号 ：
G02B3/00 G03F7/00
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B3/00
简单或复合透镜
法律状态
2022-05-27 ：
授权
2021-01-12 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G02B 3/00
申请日 : 20200924
申请日 : 20200924
2020-12-25 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
