一种偏光片及其制备方法、显示装置
实质审查的生效
摘要
本申请公开了一种偏光片及其制备方法、显示装置，用以实现健康显示，以及避免显示色偏。本申请实施例提供的一种偏光片，所述偏光片包括：偏光层，以及位于所述偏光层出光侧的解偏层；所述解偏层包括：纳米粒子，以及包覆所述纳米粒子的反射部；包覆所述纳米粒子的所述反射部与入射光发生共振散射。
基本信息
专利标题 ：
一种偏光片及其制备方法、显示装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114280714A
申请号 ：
CN202011040583.2
公开（公告）日 ：
2022-04-05
申请日 ：
2020-09-28
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
张宇仝广运李卓隆叶明哲王伯长
申请人 ：
京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司
申请人地址 ：
北京市朝阳区酒仙桥路10号
代理机构 ：
北京同达信恒知识产权代理有限公司
代理人 ：
王迪
优先权 ：
CN202011040583.2
主分类号 ：
G02B5/30
IPC分类号 ：
G02B5/30 G02B5/02 G02B1/14 G02F1/1335 G02C7/12
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B5/00
除透镜外的光学元件
G02B5/30
偏振元件
法律状态
2022-04-22 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G02B 5/30
申请日 : 20200928
申请日 : 20200928
2022-04-05 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
