偏光片、偏光片的制作方法以及显示装置
公开
摘要
本申请提供了一种偏光片、偏光片的制作方法以及显示装置，其中偏光片包括偏光层，包括贯穿偏光层的透光孔；点胶层，填充于透光孔内；保护层，设置于偏光层上，保护层覆盖于透光孔和点胶层；表面处理层，设置于保护层背离偏光层的一侧。本申请通过在偏光片的偏光层设置贯穿偏光层的透光孔，通过在透光孔内填充光学胶形成点胶层，在偏光层上设置保护层，实现对偏光层的保护功能；保护层覆盖于透光孔和点胶层，通过对保护层的表面进行处理形成表面处理层，由于保护层覆盖透光孔，使得表面处理层也能形成于透光孔上方的区域，以使表面处理层在起到偏光层功能附加的同时的实现，保证了附加功能的均一性，有利于提高显示的均一性，进而提高显示效果。
基本信息
专利标题 ：
偏光片、偏光片的制作方法以及显示装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114578609A
申请号 ：
CN202210206419.7
公开（公告）日 ：
2022-06-03
申请日 ：
2022-03-02
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
毕广洪
申请人 ：
广州华星光电半导体显示技术有限公司
申请人地址 ：
广东省广州市黄埔区（中新广州知识城）亿创街1号406房之417
代理机构 ：
深圳紫藤知识产权代理有限公司
代理人 ：
熊明
优先权 ：
CN202210206419.7
主分类号 ：
G02F1/1335
IPC分类号 ：
G02F1/1335 G02B5/30 G02B1/14
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02F
用于控制光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置，例如转换、选通、调制或解调，上述器件或装置的光学操作是通过改变器件或装置的介质的光学性质来修改的；用于上述操作的技术或工艺；变频；非线性光学；光学逻辑元件；光学模拟/数字转换器
G02F1/1335
•••••与液晶单元结构相连的光学装置，例如偏振器或反射器
法律状态
2022-06-03 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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