基于羧酸单体的阴离子氢键有机框架材料、其制备方法及应用
实质审查的生效
摘要

本发明设计合成了一种基于羧酸单体的阴离子氢键有机框架材料,通过羧酸单体与抗衡离子自组装得到,该类材料的框架可以为电中性或电正性。本发明中的有机框架材料具有高比表面积、永久孔道、水稳定、合成条件温和等特点。并且,所述阴离子氢键有机框架材料还可以通过离子交换将不同的功能性阳离子交换到氢键有机框架材料的孔道里,解决了以往离子型氢键有机框架材料难以制备,氢键有机框架材料难以合成后修饰等难题。材料制备方法简单,可以通过合成后修饰烯烃并与高分子单体共聚合来制备自支撑的柔性薄膜。由光敏性的卟啉单体和具有化学抑菌活性的季铵离子自组装形成的阴离子氢键有机框架材料,实现了化学与光动力协同抑菌的效果。

基本信息
专利标题 :
基于羧酸单体的阴离子氢键有机框架材料、其制备方法及应用
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114276552A
申请号 :
CN202011045700.4
公开(公告)日 :
2022-04-05
申请日 :
2020-09-28
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
刘天赋刘百桐
申请人 :
中国科学院福建物质结构研究所
申请人地址 :
福建省福州市杨桥西路155号
代理机构 :
北京知元同创知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
聂稻波
优先权 :
CN202011045700.4
主分类号 :
C08G83/00
IPC分类号 :
C08G83/00  A01N37/10  A01N43/66  A01N37/44  A01N43/90  A01N43/28  A01N37/08  A01N43/40  A01N55/10  A01N57/34  A01N33/12  A01P3/00  
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C08
有机高分子化合物;其制备或化学加工;以其为基料的组合物
C08G
用碳-碳不饱和键以外的反应得到的高分子化合物
C08G83/00
在C08G2/00到C08G81/00组中不包含的高分子化合物
法律状态
2022-04-22 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : C08G 83/00
申请日 : 20200928
2022-04-05 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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