包覆Al的AlN纳米颗粒及其制备方法
实质审查的生效
摘要
一种包覆Al的AlN纳米颗粒及其制备方法，采用物理气相沉积镀膜技术，通过制备出由AlN与Al组成的两相结构层和Al层相互交替重叠的多层结构复合薄膜获得，其中的两相结构层采用反应沉积方法，通过控制Al、N两种组分的比例以及接近Al熔点的基材温度，使AlN和Al两相在高温下实现分离生长，形成AlN纳米柱状晶被金属Al包覆并排列于Al的基体之中的两相结构。本发明制备得到的形状和尺寸变化范围宽且表面包覆Al的AlN纳米颗粒材料易于加入到金属熔液中且不易产生颗粒的聚集，能够获得纳米颗粒均匀分散的复合材料，显著提高金属基复合材料，特别是Al基复合材料的性能。
基本信息
专利标题 ：
包覆Al的AlN纳米颗粒及其制备方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114318258A
申请号 ：
CN202011054762.1
公开（公告）日 ：
2022-04-12
申请日 ：
2020-09-27
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
尚海龙马冰洋齐小犇张如林赵振东李戈扬
申请人 ：
上海交通大学;上海电机学院;马鞍山经济技术开发区建设投资有限公司
申请人地址 ：
上海市闵行区东川路800号
代理机构 ：
上海交达专利事务所
代理人 ：
王毓理
优先权 ：
CN202011054762.1
主分类号 ：
C23C14/35
IPC分类号 ：
C23C14/35 C23C14/24 C23C14/06 C23C14/54 B22F1/18 C23C14/02 C01B21/072 B82Y30/00 B82Y40/00
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
C23C14/35
利用磁场的，例如磁控溅射
法律状态
2022-04-29 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 14/35
申请日 : 20200927
申请日 : 20200927
2022-04-12 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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