一种调控过渡金属硫化物的二次谐波信号的方法
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摘要
本发明提供一种调控过渡金属硫化物的二次谐波信号的方法，所述方法包含如下步骤：S1、提供过渡金属硫化物/二维介电材料异质结；S2、测量过渡金属硫化物/二维介电材料异质结的二次谐波信号；其中，在调谐的激发光波长范围1100nm‑1280nm和1325nm‑1350nm内的所述异质结的二次谐波信号小于所述过渡金属硫化物的本征二次谐波信号，当激发光波长在1280nm‑1325nm之间和位于1360nm情况下，所述异质结的二次谐波信号大于所述过渡金属硫化物的本征二次谐波信号。该方法通过将石墨烯或其它二维介电材料转移到单层过渡金属硫化物上来改变它们的非线性光学响应，在转移单层石墨烯或其它二维介电材料后，过渡金属硫化物的非线性信号会有0.5‑2倍的改变，且其影响随着二维材料的介电常数的减小而下降。
基本信息
专利标题 ：
一种调控过渡金属硫化物的二次谐波信号的方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN112255859A
申请号 ：
CN202011071334.X
公开（公告）日 ：
2021-01-22
申请日 ：
2020-10-09
授权号 ：
CN112255859B
授权日 ：
2022-06-03
发明人 ：
刘开辉吴春春洪浩赵子荀
申请人 ：
北京大学
申请人地址 ：
北京市海淀区颐和园路5号
代理机构 ：
北京德崇智捷知识产权代理有限公司
代理人 ：
王欣
优先权 ：
CN202011071334.X
主分类号 ：
G02F1/37
IPC分类号 ：
G02F1/37 G02F1/355
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02F
用于控制光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置，例如转换、选通、调制或解调，上述器件或装置的光学操作是通过改变器件或装置的介质的光学性质来修改的；用于上述操作的技术或工艺；变频；非线性光学；光学逻辑元件；光学模拟/数字转换器
G02F1/19
•• G02F1/015至G02F1/167不包括的基于可变的反射或折射元件的
G02F1/35
非线性光学
G02F1/37
用于二次谐波产生的
法律状态
2022-06-03 ：
授权
2021-02-09 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G02F 1/37
申请日 : 20201009
申请日 : 20201009
2021-01-22 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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