光学膜片的转印式制造方法及转印母模的制造方法
实质审查的生效
摘要
本发明公开一种光学膜片的转印式制造方法及转印母模的制造方法，所述转印母模的制造方法包括：于金属滚筒的外表面涂布一负光阻层；通过第一波长光源穿通过至少一个光罩形成二维图形化光源照射于负光阻层；使得负光阻层显影后形成多个压印图形，进而使得负光阻层和金属滚筒构成一转印滚轮；通过转印滚轮滚压于一母模基材表面的光硬化材料层，而于光硬化材料层形成多个转印微结构；通过第二波长光源照射使得光硬化材料层固化，而使得光硬化材料层和母模基材构成一转印母模。
基本信息
专利标题 ：
光学膜片的转印式制造方法及转印母模的制造方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114371597A
申请号 ：
CN202011098673.7
公开（公告）日 ：
2022-04-19
申请日 ：
2020-10-14
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
林刘恭
申请人 ：
光群雷射科技股份有限公司
申请人地址 ：
中国台湾
代理机构 ：
北京康信知识产权代理有限责任公司
代理人 ：
刘彬
优先权 ：
CN202011098673.7
主分类号 ：
G03F7/00
IPC分类号 ：
G03F7/00 G03F7/16 G03F7/20 G03F7/30
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
法律状态
2022-05-06 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 7/00
申请日 : 20201014
申请日 : 20201014
2022-04-19 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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