一种磁条状纳米晶隔磁片及其制备方法和应用
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摘要
本发明提供了一种磁条状纳米晶隔磁片及其制备方法和应用，所述纳米晶隔磁片的制备方法包括：裁剪‑双面浸胶‑烘干固化‑热处理‑固化胶固化‑烘干‑裁剪。本发明借助在纳米晶带材双面覆膜，确保了纳米晶带材之间的绝缘，借助磁条状结构的纳米晶隔磁片，可以进一步减小涡流损耗，降低充电过程中的发热，提高充电效率。
基本信息
专利标题 ：
一种磁条状纳米晶隔磁片及其制备方法和应用
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN112289578A
申请号 ：
CN202011112177.2
公开（公告）日 ：
2021-01-29
申请日 ：
2020-10-16
授权号 ：
CN112289578B
授权日 ：
2022-05-24
发明人 ：
付亚奇刘阳阳
申请人 ：
横店集团东磁股份有限公司
申请人地址 ：
浙江省金华市东阳市横店镇工业区
代理机构 ：
北京品源专利代理有限公司
代理人 ：
巩克栋
优先权 ：
CN202011112177.2
主分类号 ：
H01F41/02
IPC分类号 ：
H01F41/02 H01F27/245
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01F
磁体；电感；变压器；磁性材料的选择
H01F41/00
专用于制造或装配磁体、电感器或变压器的设备或方法；专用于制造磁性材料的设备或方法
H01F41/02
用于制造磁芯、线圈或磁体的
法律状态
2022-05-24 ：
授权
2021-02-23 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01F 41/02
申请日 : 20201016
申请日 : 20201016
2021-01-29 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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