一种耐高温光谱选择性红外隐身涂层及其制备方法
授权
摘要
本发明公开了一种耐高温光谱选择性红外隐身涂层，是一种氧化物涂层，采用氧化铈、氧化铝、氧化锆、氧化钇、氧化镁、氧化钡、氧化锶、碳化硅、氮化硅中的两种或多种组合制备得到选择性辐射红外隐身涂层。本发明还提供所述的一种耐高温光谱选择性红外隐身涂层的制备方法，通过等离子喷涂或者丝网印刷工艺制备涂层，通过不同氧化物材料复合、不同温度处理调控其红外光谱的发射特征，实现在3.0μm‑5.0μm波段低发射率，5.0μm‑25.0μm波段高发射率。
基本信息
专利标题 ：
一种耐高温光谱选择性红外隐身涂层及其制备方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN112230321A
申请号 ：
CN202011138914.6
公开（公告）日 ：
2021-01-15
申请日 ：
2020-10-22
授权号 ：
CN112230321B
授权日 ：
2022-05-20
发明人 ：
刘东青程海峰
申请人 ：
中国人民解放军国防科技大学
申请人地址 ：
湖南省长沙市开福区德雅路109号
代理机构 ：
长沙国科天河知识产权代理有限公司
代理人 ：
邱轶
优先权 ：
CN202011138914.6
主分类号 ：
G02B5/22
IPC分类号 ：
G02B5/22 G02B5/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B5/00
除透镜外的光学元件
G02B5/20
滤光片
G02B5/22
吸收滤光片
法律状态
2022-05-20 ：
授权
2021-02-02 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G02B 5/22
申请日 : 20201022
申请日 : 20201022
2021-01-15 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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