一种抗CMAS侵蚀的热障涂层材料及其制备工艺
实质审查的生效
摘要
本发明涉及一种抗CMAS侵蚀的热障涂层材料及其制备，在基底上，右下至上依次包括粘结层、YSZ陶瓷层和氮氧化硅自损涂层，其中自损涂层厚度为30‑80μm，孔隙率为15％‑20％，由Si2N2O颗粒构成，颗粒粒径范围在1.2‑10μm之间；所述热障涂层材料总厚度在140‑260μm之间。自损涂层Si2N2O会与CMAS剧烈反应，生成致密产物，隔绝CMAS与涂层以阻止CMAS对深层涂层及金属基板的进一步侵蚀，而且，Si2N2O密度低(2.81g/cm3)，质量轻，与YSZ涂层结合性好，适合用于飞行器中。
基本信息
专利标题 ：
一种抗CMAS侵蚀的热障涂层材料及其制备工艺
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114507839A
申请号 ：
CN202011168305.5
公开（公告）日 ：
2022-05-17
申请日 ：
2020-10-28
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
贺刚邓书香杨增朝李江涛
申请人 ：
中国科学院理化技术研究所
申请人地址 ：
北京市海淀区中关村东路29号
代理机构 ：
北京正理专利代理有限公司
代理人 ：
赵晓丹
优先权 ：
CN202011168305.5
主分类号 ：
C23C4/134
IPC分类号 ：
C23C4/134 C23C14/22 C23C14/30 C23C4/073 C23C4/10 C23C4/11 C23C4/137 C23C14/16 C23C14/08 C23C14/06 C23C28/00
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C4/00
熔融态覆层材料喷镀法，例如火焰喷镀法、等离子喷镀法或放电喷镀法的镀覆（堆焊入B23K，例如B23K5/18，B23K9/04
C23C4/04
以镀覆材料为特征的
C23C4/134
等离子喷涂
法律状态
2022-06-03 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 4/134
申请日 : 20201028
申请日 : 20201028
2022-05-17 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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