一种可以提高环形件内表面电镀层均匀性的镀腔
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摘要

本发明一种可以提高环形件内表面电镀层均匀性的镀腔,属于电镀技术领域;包括镀腔盖板、作为阴极的待镀件、阳极棒和绝缘壁;绝缘壁为漏斗结构,其小径端作为入水口,大径端与待镀件同轴连接;镀腔盖板为圆形板状结构,其端面上沿周向均布出水口;待镀件为圆环结构,其两端口处分别与所述镀腔盖板、绝缘壁同轴密封连接,构成陀螺型镀腔;阳极棒为圆柱状结构,其顶端同轴固定于镀腔盖板的内端面,下端为半球体结构,位于绝缘壁的大径端内。本发明阳极加工难度和成本降低,使得镀液流动的流线不再散乱,速度分布更加均匀,流动效率更高,传质过程加快,减小浓差极化,制备出来的电镀层更加光亮,没有明显麻点、针孔等缺陷。

基本信息
专利标题 :
一种可以提高环形件内表面电镀层均匀性的镀腔
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN112301394A
申请号 :
CN202011188602.6
公开(公告)日 :
2021-02-02
申请日 :
2020-10-30
授权号 :
CN112301394B
授权日 :
2022-05-24
发明人 :
吴向清宋嘉蕾谢发勤李浪周颖
申请人 :
西北工业大学
申请人地址 :
陕西省西安市友谊西路127号
代理机构 :
西北工业大学专利中心
代理人 :
云燕春
优先权 :
CN202011188602.6
主分类号 :
C25D7/04
IPC分类号 :
C25D7/04  C25D17/02  C25D5/08  C25D5/02  
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C25
电解或电泳工艺;其所用设备
C25D
覆层的电解或电泳生产工艺方法;电铸;工件的电解法接合;所用的装置
C25D7/00
以施镀制品为特征的电镀
C25D7/04
管;环;中空体
法律状态
2022-05-24 :
授权
2021-02-23 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : C25D 7/04
申请日 : 20201030
2021-02-02 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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