光学记录装置

授权

摘要

一种光学记录装置包括至少一导光层、复数个发光单元以及感光媒介。导光层包括复数个透光结构以及复数个光吸收结构，其中复数个透光结构与复数个光吸收结构紧接地交替设置。复数个发光单元分别设置于导光层的复数个透光结构上，且复数个发光单元用以朝向对应的透光结构发光。感光媒介设置于导光层下，且感光媒介用以接收复数个发光单元所发出通过该导光层的光线。藉此，感光媒介接收发散角度小的光线，进而提升纪录影像及成像的品质。

基本信息

专利标题：

光学记录装置

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN112309439A

申请号：

CN202011202989.6

公开（公告）日：

2021-02-02

申请日：

2020-11-02

授权号：

CN112309439B

授权日：

2022-04-05

发明人：

何懋腾林家竹郑乃文

申请人：

业成科技（成都）有限公司;业成光电（深圳）有限公司;英特盛科技股份有限公司

申请人地址：

四川省成都市高新区西区合作路689号

代理机构：

成都希盛知识产权代理有限公司

代理人：

杨冬梅

优先权：

CN202011202989.6

主分类号：

G11B7/0045

IPC分类号：

G11B7/0045 G11B7/24035