用于高通量材料表征的二维扫描系统及测量方法
实质审查的生效
摘要
用于高通量材料表征的二维扫描系统与方法,应用于高通量材料表征与扫描领域。本发明提出了三种不同的二维扫描系统与方法,其均由激光器、高效分光单元、样品、光电探测器组成,实现高采样速度、大数据量、高空间/时间分辨率的材料扫描。基于空间逐点法的二维扫描系统,采用单一MEMS镜和二维1×n2 MEMS镜的组合对样本进行逐点扫描;基于空间并行法的二维扫描系统,利用两个二维1×n2 MEMS镜的组合进行并行扫描;基于空时‑并串转换法的二维扫描系统,利用空间扩散/分散器和时域分散器进行二维扫描。三种方法均能用于高通量材料表征技术,基于MEMS的时间到二维空间映射的扫描系统和基于空间扩散/分散器的直接映射到二维空间的扫描系统均能使扫描速度大幅度提升。
基本信息
专利标题 :
用于高通量材料表征的二维扫描系统及测量方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114509406A
申请号 :
CN202011279484.X
公开(公告)日 :
2022-05-17
申请日 :
2020-11-16
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
岳洋王晓妍胡家赫许天旭王志
申请人 :
南开大学
申请人地址 :
天津市南开区卫津路94号
代理机构 :
代理人 :
优先权 :
CN202011279484.X
主分类号 :
G01N21/47
IPC分类号 :
G01N21/47
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N21/00
利用光学手段,即利用亚毫米波、红外光、可见光或紫外光来测试或分析材料
G01N21/17
入射光根据所测试的材料性质而改变的系统
G01N21/47
散射,即漫反射
法律状态
2022-06-03 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G01N 21/47
申请日 : 20201116
申请日 : 20201116
2022-05-17 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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