用于表征图案形成装置的测量系统和方法
实质审查的生效
摘要
提供一种用于确定图案形成装置的表面参数的方法,包括以下步骤:使用第一测量系统相对于曝光辐射束的路径定位所述图案形成装置;将所述图案形成装置设置在布置于第二测量系统中的色差透镜的第一焦平面处;用穿过所述色差透镜的辐射照射所述图案形成装置的表面的一部分,其中所述辐射包括多个波长;确定所述图案形成装置的被照射的部分在第一方向和第二方向上的位置;通过所述色差透镜收集由所述图案形成装置反射的辐射的至少一部分;测量辐射的被收集的部分的作为波长的函数的强度,以获得被照射的区域的光谱信息;和根据所述光谱信息确定所述图案形成装置在所确定的位置处的所述表面参数。
基本信息
专利标题 :
用于表征图案形成装置的测量系统和方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114514475A
申请号 :
CN202080068963.9
公开(公告)日 :
2022-05-17
申请日 :
2020-09-07
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
A·B·杰尤恩克E·H·E·C·奥姆梅伦拜尔拉克·摩艾斯特赫敏·福肯·彭德克·昂科J·A·C·M·皮耶宁堡
申请人 :
ASML荷兰有限公司
申请人地址 :
荷兰维德霍温
代理机构 :
中科专利商标代理有限责任公司
代理人 :
张启程
优先权 :
CN202080068963.9
主分类号 :
G03F7/20
IPC分类号 :
G03F7/20 G03F1/84
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-06-03 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 7/20
申请日 : 20200907
申请日 : 20200907
2022-05-17 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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