图案形成装置调节系统以及方法
公开
摘要
一种掩模版调节系统，包括：支撑结构，该支撑结构用于支撑掩模版；气体供应模块，该气体供应模块用于提供邻近于掩模版的气流；以及偏压模块，该偏压模块用于控制掩模版的电势。偏压模块包括第一电极、第二电极和电源。第一电极和第二电极每一个与掩模版间隔开，并且面向掩模版以与掩模版至少部分地重叠。电源被布置成将第一电极保持在正电压并且将第二电极保持在负电压，这些电压使得掩模版的电压为负。第二电极被设置成使得在使用中，第二电极不与掩模版的图像形成部分重叠。
基本信息
专利标题 ：
图案形成装置调节系统以及方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114556222A
申请号 ：
CN202080071627.X
公开（公告）日 ：
2022-05-27
申请日 ：
2020-09-14
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
M·A·范德柯克霍夫F·M·J·H·范德维特林A·M·雅库尼恩
申请人 ：
ASML荷兰有限公司
申请人地址 ：
荷兰维德霍温
代理机构 ：
中科专利商标代理有限责任公司
代理人 ：
胡良均
优先权 ：
CN202080071627.X
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-05-27 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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