投影光学系统以及图像投影装置
实质审查的生效
摘要
本发明提供一种能够抑制像差的产生，并且能够小型且廉价地制造的投影光学系统以及包括该投影光学系统的图像投影装置。本发明的投影光学系统(10)用于对显示于图像显示元件(11)中的图像进行放大并投影,其自缩小侧向放大侧包括第一折射光学系统(13)、反射光学系统(MR)、以及第二折射光学系统(15)，上述第一折射光学系统(13)包括作为一枚共用透镜(L1)的一侧的第一部分(L1B)，上述第二折射光学系统(15)包括作为上述共用透镜(L1)的另一侧的第二部分(L1A)。
基本信息
专利标题 ：
投影光学系统以及图像投影装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114509908A
申请号 ：
CN202011283757.8
公开（公告）日 ：
2022-05-17
申请日 ：
2020-11-17
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
宫健二
申请人 ：
理光工业解决方案有限公司
申请人地址 ：
日本神奈川县横滨市
代理机构 ：
北京品源专利代理有限公司
代理人 ：
吕琳
优先权 ：
CN202011283757.8
主分类号 ：
G03B21/14
IPC分类号 ：
G03B21/14 G03B21/28 H04N5/74 G02B27/00 G02B17/08
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03B
摄影、放映或观看用的装置或设备；利用了光波以外其他波的类似技术的装置或设备；以及有关的附件
G03B21/00
放映机或放映式看片机；有关附件
G03B21/14
零部件
法律状态
2022-06-03 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03B 21/14
申请日 : 20201117
申请日 : 20201117
2022-05-17 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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