投影光学系统以及图像投影装置
实质审查的生效
摘要
一种实现了在缩小侧配置第一折射系统，在放大侧配置第二折射系统，在该第一折射系统与第二折射系统之间配置反射光学系统的新型的投影光学系统以及图像投影装置。用于将缩小侧的图像在放大侧的被投影面之上进行投影，其自缩小侧向放大侧配置有第一折射系统、反射光学系统和第二折射系统，第一折射系统自缩小侧向放大侧配置有第一透镜组以及第二透镜组，第一透镜组用于形成第一中间像，第二透镜组基于第一中间像形成第二中间像，反射光学系统具有用于使来自第二中间像的光线进行反射的反射镜，第二折射系统具有用于使基于反射光学系统的反射光线进行折射的透镜，整个系统的焦距f与空气换算后的后焦距Bf满足条件1.5＜Bf/f＜25。
基本信息
专利标题 ：
投影光学系统以及图像投影装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114355713A
申请号 ：
CN202110202661.2
公开（公告）日 ：
2022-04-15
申请日 ：
2021-02-23
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
宫健二
申请人 ：
理光工业解决方案有限公司
申请人地址 ：
日本神奈川县横滨市
代理机构 ：
北京品源专利代理有限公司
代理人 ：
吕琳
优先权 ：
CN202110202661.2
主分类号 ：
G03B21/14
IPC分类号 ：
G03B21/14 G03B21/28 G02B17/08
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03B
摄影、放映或观看用的装置或设备；利用了光波以外其他波的类似技术的装置或设备；以及有关的附件
G03B21/00
放映机或放映式看片机；有关附件
G03B21/14
零部件
法律状态
2022-05-03 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03B 21/14
申请日 : 20210223
申请日 : 20210223
2022-04-15 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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