一种防止黑磷纳米片氧化降解的方法及其应用
实质审查的生效
摘要
本发明公开了一种防止黑磷纳米片氧化降解的方法及其应用，所述方法包括以下步骤：将黑磷纳米片在惰性气体和氢气的混合气氛中进行氢化反应，获得表面修饰有P‑H共价键的氢化黑磷纳米片。上述氢化黑磷纳米片表面修饰有5‑10％摩尔比的P‑H共价键。为了提高黑磷纳米片的稳定性，现有技术的保护或修饰措施，都不可避免地大幅度降低了应有的催化性能，尤其是光催化性能几乎全部丧失，而本发明通过对黑磷纳米片进行氢化修饰，提高黑磷稳定性的同时基本维持其原有的光催化性能。
基本信息
专利标题 ：
一种防止黑磷纳米片氧化降解的方法及其应用
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114538395A
申请号 ：
CN202011326516.7
公开（公告）日 ：
2022-05-27
申请日 ：
2020-11-24
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
陈勇石睿
申请人 ：
中国科学院理化技术研究所
申请人地址 ：
北京市海淀区中关村东路29号
代理机构 ：
北京正理专利代理有限公司
代理人 ：
赵晓丹
优先权 ：
CN202011326516.7
主分类号 ：
C01B25/00
IPC分类号 ：
C01B25/00 C01B3/06 B01J33/00 B01J27/14
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C01
无机化学
C01B
非金属元素；其化合物
C01B25/00
磷；其化合物
法律状态
2022-06-14 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C01B 25/00
申请日 : 20201124
申请日 : 20201124
2022-05-27 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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