制程中衍生低聚物循环再生处理方法
公开
摘要
一种制程中衍生低聚物循环再生处理方法，先以溶剂(尤以含苯环的有机溶剂，优选为二甲苯)对低聚物蜡块进行溶解处理，接着以吸附剂(优选为活性白土)对低聚物蜡块进行吸附脱色处理，该低聚物蜡块与该吸附剂及与该溶剂间以最适化配比进行处理，该低聚物蜡块经过溶解及吸附脱色处理后，已经大幅降低醋酸乙烯酯(VA)及铁(Fe)含量，变成为不具刺鼻异味及颜色近白(不再为黄褐色)的再生低聚物蜡块，只须经过适当加工，就可以转变为再生产品。
基本信息
专利标题 ：
制程中衍生低聚物循环再生处理方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114570223A
申请号 ：
CN202011371184.4
公开（公告）日 ：
2022-06-03
申请日 ：
2020-11-30
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
林文勇洪伟腾黄怡萍李文智郭益铭亷志强
申请人 ：
台湾聚合化学品股份有限公司
申请人地址 ：
中国台湾高雄市仁武区凤仁路330号
代理机构 ：
北京慧泉知识产权代理有限公司
代理人 ：
王顺荣
优先权 ：
CN202011371184.4
主分类号 ：
B01F21/20
IPC分类号 ：
B01F21/20 B01D15/00 C08F6/00 C08F210/02 C08F218/08
法律状态
2022-06-03 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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