一种用于真空镀膜样品的取样装置及其取样方法
公开
摘要
本发明公开了一种用于真空镀膜样品的取样装置及其取样方法，所述取样装置包括取样装置底座和取样装置盖板，所述取样装置底座设有一个或多个取样片安装槽，所述取样片安装槽为上下开放的槽，所述取样片安装槽内设有凸台以承接样片，所述取样装置盖板可拆卸的装配于所述取样装置底座上以覆盖所有取样片安装槽。在转移安装过程中样片紧固，不会有样片跌落、遗失的风险。
基本信息
专利标题 ：
一种用于真空镀膜样品的取样装置及其取样方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114577506A
申请号 ：
CN202011379945.0
公开（公告）日 ：
2022-06-03
申请日 ：
2020-11-30
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
闫超吕绪明罗立平
申请人 ：
核工业理化工程研究院
申请人地址 ：
天津市河东区津塘路168号
代理机构 ：
天津创智睿诚知识产权代理有限公司
代理人 ：
李薇
优先权 ：
CN202011379945.0
主分类号 ：
G01N1/04
IPC分类号 ：
G01N1/04 C23C14/30
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N1/00
取样；制备测试用的样品
G01N1/02
取样装置
G01N1/04
固体的，如采用切割
法律状态
2022-06-03 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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