一种用于真空镀膜的样品高温加热装置
专利申请权、专利权的转移
摘要

本实用新型公开了一种用于真空镀膜的样品高温加热装置,此装置设置在真空镀膜室内,包括基材加热组件、靶材加热组件,所述基材加热组件设置在真空镀膜室的上方,且能将所述真空镀膜室内的基材夹持组件夹持的基材加热,同时能对所述真空镀膜室进行预加热,所述靶材加热组件位于基材夹持组件的下方,且所述靶材加热组件能将靶材加热,并使所述靶材加热组件上的靶材蒸发。通过对基材和靶材的分别加热,来达到分别精准控制的目的,进而保证在基材上的靶材层的均匀和牢固,为真空镀膜技术进一步的发展提供一种可靠的加热方案,而且这种加热方式更环保节能。

基本信息
专利标题 :
一种用于真空镀膜的样品高温加热装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202020233757.6
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-02-28
授权号 :
CN211689217U
授权日 :
2020-10-16
发明人 :
王宁
申请人 :
苏州泓沵达仪器科技有限公司
申请人地址 :
江苏省苏州市相城区太平街道金澄路88-1号8209室
代理机构 :
无锡市汇诚永信专利代理事务所(普通合伙)
代理人 :
丰叶
优先权 :
CN202020233757.6
主分类号 :
C23C14/28
IPC分类号 :
C23C14/28  
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
C23C14/28
波能法或粒子辐射法
法律状态
2022-03-01 :
专利申请权、专利权的转移
专利权的转移IPC(主分类) : C23C 14/28
登记生效日 : 20220217
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 苏州泓沵达仪器科技有限公司
变更后权利人 : 英纳科(苏州)半导体科技有限公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 215000 江苏省苏州市相城区太平街道金澄路88-1号8209室
变更后权利人 : 215000 江苏省苏州市吴江区江陵街道芦荡路168号(凌益路北侧)
2020-10-16 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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