加热样品台及具有其的真空镀膜系统
实质审查的生效
摘要
本发明公开了加热样品台及具有其的真空镀膜系统，涉及真空镀膜设备技术领域，包括加热器和样品台，所述样品台用于承载基片，所述加热器位于所述样品台上方由不透光材料围成的加热腔中，所述加热器连接测温探头和控制器，所述测温探头用于检测基片的温度，所述测温探头朝向所述样品台且位于所述样品台的上方，所述样品台连接有转轴并由所述转轴带动旋转。本发明能够解决现有技术中样品台加热效率低下、安装维护不便、加热温度不均或控制反馈迟滞等问题，易于实施且控温效果更好。
基本信息
专利标题 ：
加热样品台及具有其的真空镀膜系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114318281A
申请号 ：
CN202111660646.9
公开（公告）日 ：
2022-04-12
申请日 ：
2021-12-30
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
邵建鑫冯旭光李通光
申请人 ：
布劳恩惰性气体系统（上海）有限公司
申请人地址 ：
上海市浦东新区唐镇工业园金唐路145号1号楼1楼
代理机构 ：
杭州裕阳联合专利代理有限公司
代理人 ：
高明翠
优先权 ：
CN202111660646.9
主分类号 ：
C23C14/54
IPC分类号 ：
C23C14/54 C23C14/24 C23C14/50
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/54
镀覆工艺的控制或调节
法律状态
2022-04-29 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 14/54
申请日 : 20211230
申请日 : 20211230
2022-04-12 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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