一种波长转换胶膜材料及其制备方法
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摘要

一种波长转换胶膜材料及其制备方法,涉及光功能材料。所述波长转换胶膜材料由光敏感聚合物、复合荧光转换材料、包覆基质组成,复合荧光转换材料制备时通过溶剂溶解,高温煅烧后所得粉末均匀分散在光敏感聚合物中。光敏感聚合物为对紫外光敏感的负性光刻胶;复合荧光转换材料为纳米晶发光中心的复合发光材料;包覆基质为二氧化硅多孔分子筛。通过与介孔分子筛混合高温烧结的方式,增强钙钛矿量子点的光、热、水稳定性,且在与负性光刻胶混合后仍具有高的量子产率。具有良好稳定性和紫外/蓝光下转换功能;采用光刻技术制备全彩化色转换层的方式降低工艺成本,有利于实际应用以及商业化;制备方法简单,可大批量制备,适于实际操作和应用。

基本信息
专利标题 :
一种波长转换胶膜材料及其制备方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN112540508A
申请号 :
CN202011414897.4
公开(公告)日 :
2021-03-23
申请日 :
2020-12-04
授权号 :
CN112540508B
授权日 :
2022-05-10
发明人 :
林岳郑曦上官质彬吴挺竹陈国龙陈忠
申请人 :
厦门大学
申请人地址 :
福建省厦门市思明区思明南路422号
代理机构 :
厦门南强之路专利事务所(普通合伙)
代理人 :
马应森
优先权 :
CN202011414897.4
主分类号 :
G03F7/004
IPC分类号 :
G03F7/004  G03F7/038  C09K11/66  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
G03F7/004
感光材料
法律状态
2022-05-10 :
授权
2021-04-09 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 7/004
申请日 : 20201204
2021-03-23 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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