一种吡非尼酮光降解杂质及其制备方法
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摘要
本发明公开了一种吡非尼酮光降解杂质6‑甲基‑2苯基‑2‑氮杂双环[2.2.0]己‑5‑烯‑3‑酮及其制备方法。步骤简单，反应条件温和，产物收率高且纯度较高。本发明为吡非尼酮原料药及相关制剂的降解杂质检测提供了新的对照品，更有利于工艺研究和质量控制，进而控制吡非尼酮的产品质量，具有重大的意义和实用价值。
基本信息
专利标题 ：
一种吡非尼酮光降解杂质及其制备方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN112645862A
申请号 ：
CN202011448041.9
公开（公告）日 ：
2021-04-13
申请日 ：
2020-12-09
授权号 ：
CN112645862B
授权日 ：
2022-04-01
发明人 ：
施路许加龙胡丰锦
申请人 ：
南京华威医药科技集团有限公司
申请人地址 ：
江苏省南京市栖霞区纬地路9号C3栋
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN202011448041.9
主分类号 ：
C07D205/12
IPC分类号 ：
C07D205/12 G01N1/28
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C07
有机化学
C07D
杂环化合物
C07D205/00
杂环化合物，含四元环、带1个氮原子作为惟一的杂环原子
C07D205/12
与碳环或碳环系稠合
法律状态
2022-04-01 ：
授权
2021-04-30 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C07D 205/12
申请日 : 20201209
申请日 : 20201209
2021-04-13 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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